Janela de sílica fundida

Clareza UV incomparável: Nossa sílica fundida de "grau UV" oferece a mais alta transmissão no espectro UV profundo, permitindo que seus sistemas de litografia, esterilização e espectroscopia operem com eficiência máxima.

Construídas para o feixe: com um dos limites de dano a laser mais altos do setor, nossas janelas de nível de laser suportam fluxos de laser CW e pulsados ​​intensos, protegendo seu sistema e mantendo uma fidelidade de frente de onda excepcional.

Estabilidade térmica por design: um coeficiente ultrabaixo de expansão térmica garante que o foco permaneça nítido e o alinhamento permaneça verdadeiro, mesmo sob a carga de calor da operação de alta potência ou nas temperaturas extremas do espaço.

Uma plataforma para precisão: sua excepcional homogeneidade e capacidade de polimento tornam-no o substrato ideal para revestimentos exigentes de película fina, permitindo funções ópticas complexas com perda mínima.

Fabricação de semicondutores: Películas e ópticas para steppers de litografia DUV e EUV.

Sistemas avançados de laser: janelas, lentes e substratos para lasers excimer, ultrarrápidos e pulsados ​​de alta energia.

Aeroespacial e Defesa: Janelas para telescópios espaciais, sensores UV de alerta de mísseis e telêmetros a laser.

Ciências Biológicas e Análise: Cubetas e janelas para espectroscopia UV-Vis, detecção de fluorescência e instrumentos de sequenciamento de DNA.

Processamento Industrial: Viewports para fornos de alta temperatura e câmaras de plasma.